ZnO壓敏電阻及其片式化技術(shù)
作者：陳濤; 傅邱云; 付振曉 廣東風(fēng)華高新科技股份有限公司; 廣東肇慶526060; 華中科技大學(xué)光學(xué)與電子信息學(xué)院; 武漢430074
摘要：ZnO壓敏電阻由于具有獨(dú)特的非線性I.V特性而在電子電路中得到了廣泛應(yīng)用。隨著電子產(chǎn)品向著小型化、高集成化和數(shù)字化方向發(fā)展,片式ZnO壓敏電阻(ZnOMLVs)應(yīng)用日益廣泛。基于此,本文結(jié)合作者對ZnO壓敏陶瓷還原.再氧化工藝及賤金屬內(nèi)電極的研究,介紹了目前ZnOMLVs的主要材料及工藝研究進(jìn)展,并對片式ZnO壓敏電阻的發(fā)展趨勢提出了一孔之見。
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